在全球半導體產業(yè)競爭日益激烈的背景下，美國商務部近期更新了出口管制條款，這是對《芯片法案》后的又一重大調整。本次更新針對的是芯片制造核心技術和設備，包括但不限于EUV掩膜、刻蝕機等，同時對AI芯片許可證及其例外情況進行了重新澄清。此舉意在限制中國大陸半導體產業(yè)的發(fā)展，尤其是阻斷其向先進工藝技術的跨越。

此次出口管制更新中，澳門地區(qū)被頻繁提及，與2023年10月的規(guī)則一致，采取了對澳門及D:5組地區(qū)（涵蓋中國大陸、伊朗、俄羅斯等）"推定拒絕”策略。這意味著，除非有特殊理由，否則向這些地區(qū)出口受控AI芯片的申請將默認被拒絕。D:5組地區(qū)是美國出口管制中的一個分類，表示對這些國家和地區(qū)的出口、再出口或轉移受到嚴格限制。

更新中引入了名為"授權的先進算力”許可證豁免，為某些情況下的出口提供了一定的便利。具體來說，對非D:4、D:5組別的國家和地區(qū)出口某些AI相關產品，在滿足特定條件下不需要額外的許可證。

(1) 光刻機：本次更新加強了對EUV掩膜和相關設備的管控，將"國家安全”和"區(qū)域穩(wěn)定”作為新增的管控原因，對澳門地區(qū)、D:5國家和地區(qū)的出口、再出口等行為實施更嚴格的許可要求。
(2) RTX4090：針對消費級AI芯片，如RTX4090，更新條款明確了性能密度的計算方式和閾值，為某些高性能芯片的出口提供了明確的指引。
(3) AIPC：對于AI處理芯片（AIPC），更新條款提供了更清晰的適用范圍和例外情況，使得企業(yè)在出口這類產品時有更明確的依據(jù)。

美國此次出口管制更新的主要目的是限制中國在半導體產業(yè)中獲取先進技術和設備，尤其是那些可用于軍事和高級計算的關鍵技術。通過這種方式，美國希望保持其在全球半導體產業(yè)中的技術領先地位，同時出于國家安全的考慮，防止先進技術落入潛在對手手中。

面對這種情況，中國企業(yè)和研究機構需要采取多項對策：

(1) 加強自主研發(fā)：提高自主研發(fā)能力，減少對外部先進技術和設備的依賴。
(2) 多元化進口來源：探索其他國家和地區(qū)的技術合作與設備采購，降低對單一來源的依賴。
(3) 合法合規(guī)：嚴格遵守美國的出口管制規(guī)定，通過合法渠道進行技術和設備的引進。
(4) 國際合作：加強與國際合作伙伴的溝通，共同應對美國的技術封鎖，尋找替代技術路徑。

美國的出口管制更新反映了其在全球半導體產業(yè)競爭中的戰(zhàn)略考量，盡管管制程度有所調整，但其根本目的并未改變。中國企業(yè)需要密切關注后續(xù)發(fā)展，靈活調整戰(zhàn)略，加強自主技術研發(fā)，以應對不斷變化的國際貿易環(huán)境。